[11/03/2011] News toscana
Fotovoltaico, la tecnologia Ppd a film sottile rilancerà il settore anche senza incentivi?
FIRENZE. Il fotovoltaico col tempo si sosterrà da solo senza bisogno di incentivi pubblici come dimostrano già oggi alcune aziende, punte di eccellenza del settore. Tra queste la Siena Solar Nanotech di Colle val d'Elsa (Siena) presente tra l'altro, unica azienda italiana, a Berlino al Thin Film Summit, una delle principali conferenze mondiali per l'industria del fotovoltaico a film sottili.
In terra tedesca il presidente dell'azienda Carlo Taliani ha presentato i vantaggi che la tecnologia Pulsed plasma deposition (Ppd) mette a disposizione dell'industria del fotovoltaico a film sottile per dare competitività all'energia solare.
«La fonte solare fotovoltaica potrà contribuire in modo significativo solo quando sarà economicamente competitiva con le fonti di energia tradizionali senza la necessità di incentivi pubblici- ha dichiarato Taliani da Berlino - Auspico tuttavia che si faccia al più presto chiarezza sulle finalità del Decreto legge sulle rinnovabili, discutibile quantomeno nel metodo: cambiamenti più graduali sarebbero stati meglio assimilati e compresi. D'altronde, credo che il nostro Paese debba dare la priorità alla creazione di una filiera italiana di fotovoltaico sostenibile. A questo dovrebbero essere indirizzati parte degli incentivi, anche per tutelare le imprese rispetto a produttori di celle tradizionali cinesi o più in generale a speculazioni».
La Pulsed plasma deposition- spiegano da Siena Solar Nanotech- è un procedimento che potrà permettere di ridurre drasticamente il costo dei pannelli fotovoltaici ad prezzo inferiore ai 50 eurocent/Wp. La Ppd è una tecnica che si basa sull'ablazione diretta di un bersaglio mediante impulsi di elettroni ultracorti ad alta energia. Il materiale rimosso dal bersaglio forma un getto che si deposita progressivamente su un substrato ricoprendone la superficie con un film. I materiali cresciuti con questa tecnica presentano ottime caratteristiche di compattezza, uniformità e composizione che non sono ottenibili con altri processi utilizzati nella produzione di film industriali.
La Ppd permette inoltre di depositare film potenzialmente su qualsiasi materiale, è adatta ad essere applicata su grandi superfici, ha un'ottima velocità di deposizione e produce film cristallini anche su substrati con struttura non ordinata (vetro, plastica). «La nostra partecipazione al Thin Film Summit a fianco dei maggiori player mondiali del settore è un segno di quanto l'attenzione per la nostra tecnologia stia crescendo e siamo fiduciosi di poter produrre entro il prossimo anno il primo impianto Ppd a larga area» ha concluso il presidente di Siena Solar Nanotech .